Этот файл находится на Викискладе и может использоваться другими проектами.
Информация с его страницы описания приведена ниже.
Краткое описание
ОписаниеLDD-MOS transistor - CMOS with STI ru.svg
English: n-channel and p-channel MOSFET's in lightly doped drain (LDD) design. Individual transistors are electricaly separated by shallow trench isolation (STI) trenches.
Deutsch: n-Kanal- und p-Kanal-MOSFETs mit LDD-Erweiterungen (LDD = lightly doped drain). Die einzelnen Bauelemente durch STI-Gräben (STI = shallow trench isolation) von einander elektrisch isoliert
Русский: n-канальный и p-канальный МОП-транзисторы в структуре с щелевой изоляцией (STI)
Я, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикую его на условиях следующих лицензий:
Разрешается копировать, распространять и/или изменять этот документ в соответствии с условиями GNU Free Documentation License версии 1.2 или более поздней, опубликованной Фондом свободного программного обеспечения, без неизменяемых разделов, без текстов, помещаемых на первой и последней обложке. Копия лицензии включена в раздел, озаглавленный GNU Free Documentation License.http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
делиться произведением – копировать, распространять и передавать данное произведение
создавать производные – переделывать данное произведение
При соблюдении следующих условий:
атрибуция – Вы должны указать авторство, предоставить ссылку на лицензию и указать, внёс ли автор какие-либо изменения. Это можно сделать любым разумным способом, но не создавая впечатление, что лицензиат поддерживает вас или использование вами данного произведения.