Файл:Ion implanter schematic-ru.svg
Перейти к навигации
Перейти к поиску
Размер этого PNG-превью для исходного SVG-файла: 620 × 599 пкс. Другие разрешения: 248 × 240 пкс | 497 × 480 пкс | 795 × 768 пкс | 1060 × 1024 пкс | 2119 × 2048 пкс | 656 × 634 пкс.
Исходный файл (SVG-файл, номинально 656 × 634 пкс, размер файла: 3 КБ)
Краткое описание
| Описание |
English: Schematics of an mass separating implantation/deposition setup. Ion energy at the substrate is determined by the difference of Ual and Ud. Image created using Tgif.
Русский: Упрощённая схема установки для ионной имплантации |
| Дата | |
| Источник | File:Ion implanter schematic.png by Daniel Schwen |
| Автор | Д.Ильин: vectorization, translation |
| Другие версии |
|
|
Этот SVG-файл включает встроенный текст, который может быть переведён на ваш язык с помощью любого SVG-редактора, текстового редактора или Инструмента по переводу SVG-файлов. За подробной информацией обратитесь к статье О переводе SVG-файлов. |
Лицензирование
Я, владелец авторских прав на это произведение, добровольно публикую его на условиях следующей лицензии:
 
|
Этот файл доступен на условиях Creative Commons CC0 1.0 Универсальной передачи в общественное достояние (Universal Public Domain Dedication). |
| Лица, связанные с работой над этим произведением, решили передать данное произведение в общественное достояние, отказавшись от всех прав на произведение по всему миру в рамках закона об авторских правах (а также связанных и смежных прав), в той степени, которую допускает закон. Вы можете копировать, изменять, распространять и исполнять данное произведение в любых целях, в том числе в коммерческих, без получения на это разрешения автора.
|
История файла
Нажмите на дату/время, чтобы увидеть версию файла от того времени.
| Дата/время | Миниатюра | Размеры | Участник | Примечание | |
|---|---|---|---|---|---|
| текущий | 21:27, 4 ноября 2023 | | 656 × 634 (3 КБ) | wikimediacommons>Д.Ильин | Optimization |
Использование файла
Следующая страница использует этот файл:
