Оксид гафния(IV)

Материал из testwiki
Перейти к навигации Перейти к поиску

Шаблон:Карточка{{#invoke:check for unknown parameters|check |unknown= |ignoreblank= |preview=Неизвестный параметр «_VALUE_» шаблона Вещество |showblankpositional= |CAS|ChEBI|ChemSpiderID|ECB|EINECS|H-фразы|InChI|InChIKey|NFPA 704|P-фразы|PubChem|R-фразы|RTECS|S-фразы|SMILES|nocat|Кодекс Алиментариус|ЛД50|ООН|ПДК|СГС|большие схемы|вещество1|вещество2|вещество3|вещество4|внешний вид|вращение|гибридизация|давление пара|диапазон прозрачности|динамическая вязкость|дипольный момент|заголовок|изображение|изображение слева|изображение справа|изображение2|изоэлектрическая точка|интервал трансформации|картинка|картинка малая|картинка2|картинка3D|картинка 3D|картинка3D2|кинематическая вязкость|конст. диссоц. кислоты|константа В. дер В.|координационная геометрия|коэфф. электр. сопротив.|кристаллическая структура|критическая плотность|критическая темп.|критическая точка|критическое давление|молярная концентрация|молярная масса|наименование|описание изображений слева и справа|описание изображения|описание изображения слева|описание изображения справа|описание изображения2|описание картинки|описание картинки2|описание картинки3D|описание картинки3D2|описание малой картинки|от. диэлектр. прониц.|плотность|поверхностное натяжение|показатель преломления|предел прочности|пределы взрываемости|примеси|проводимость|растворимость|растворимость1|растворимость2|растворимость3|растворимость4|рац. формула|сигнальное слово|скорость звука|сокращения|состояние|твёрдость|темп. воспламенения|темп. вспышки|темп. кипения|темп. кипения пр.|темп. плавления|темп. разложения|темп. самовоспламенения|темп. стеклования|темп. сублимации|температура размягчения|тепловое расширение|теплопроводность|теплоёмкость|теплоёмкость2|токсичность|традиционные названия|тройная точка|угол Брюстера|уд. электр. сопротивление|удельная теплота парообразования|удельная теплота плавления|фазовые переходы|хим. имя|хим. формула|ширина изображения|ширина изображения2|энергия ионизации|энтальпия кипения|энтальпия образования|энтальпия плавления|энтальпия растворения|энтальпия сгорания|энтальпия сублимации|ЕС|удельная теплота парообразования2|удельная теплота плавления2|Номер UN|эмпирическая формула|теплота парообразования|энтальпия раствородия|тепловое расширодие}}

Окси́д га́фния(IV) — бинарное неорганическое соединение металла гафния и кислорода с формулой HfOA2, бесцветные кристаллы или белый порошок, нерастворим в воде, из растворов солей выделяется в виде кристаллогидрата.

Получение

Сжиганием металлического гафния в кислороде:

Hf+OA2700 AoA22oCHfOA2.

Действием перегретого па́ра на металлический гафний:

Hf+2HA2O300 AoA22oCHfOA2+2HA2.

Разложением при нагревании дигидроксид-оксида гафния:

HfO(OH)A26001000 AoA22oCHfOA2+HA2O.

Окислением кислородом хлорида гафния(IV):

HfClA4+OA2500 AoA22oCHfOA2+2ClA2.

Разложением при нагревании оксид-дихлорида гафния:

2HfOClA2300 AoA22oCHfOA2+HfClA4.

Разложением перегретым па́ром оксид-дихлорида гафния:

HfOClA2+HA2O300 AoA22oCHfOA2+2HCl.

Пиролизом оксалата, сульфата и других солей гафния:

Hf(CA2OA4)A2THfOA2+2COA2+2CO,
Hf(SOA4)A2THfOA2+2SOA3.

Физические свойства

Оксид гафния(IV) представляет собой бесцветные кристаллы, в мелкодисперсном состоянии — белый порошок, кристаллизуется в нескольких кристаллических модификациях:

Не растворяется в воде, р ПР = 63,94.

Химические свойства

При осаждении из водных растворов образуется осадок плохо растворимого желтоватого гидрата состава HfOA2nHA2O.

Прокалённый оксид гафния химически более инертен.

Гидратированная форма при нагревании разлагается до дигидроксид-оксида гафния:

HfOA2nHA2O140200 AoA22oCHfO(OH)A2+(n-1)HA2O.

Медленно реагирует с серной кислотой:

HfOA2+2HA2SOA4τHf(SOA4)A2+2HA2O.

Реагирует с концентрированной плавиковой кислотой:

HfOA2+4HFHA2(HfOFA4)+HA2O.

Реагирует с галогенами в присутствии восстановителей:

HfOA2+2ClA2+C500 AoA22oCHfClA4+COA2.

При сплавлении с гидроксидами, оксидами щелочных металлов образует соли гафниевой кислоты — гафнаты:

HfOA2+2NaOH10001100 AoA22oCNaA2HfOA3+HA2O.

Применение

Примечания

Шаблон:Примечания

Литература

Шаблон:Оксиды Шаблон:Соединения гафния

  1. Pan Kwi Park, Sang-Won Kang: Enhancement of dielectric constant in HfO2 thin films by the addition of Al2O3. In: Applied Physics Letters. 89, 2006, S. 192905, doi:10.1063/1.2387126.
  2. M. N. Jones, Y. W. Kwon, D. P. Norton: Dielectric constant and current transport for HfO2 thin films on ITO. In: Applied Physics A. 81, 2005, S. 285–288, doi:10.1007/s00339-005-3208-2.
  3. Шаблон:Cite web
  4. Шаблон:Cite web